信息量很大进度比预想的要快国产光刻机为何最终能成

2023-08-03 19:37:52 编辑：左逸霭来源：

导读 7月31日，新华网发布一篇文章对国产光刻机如何突围做出了自己的观点。最近这两年来，国产光刻机在低调的发展，相关的内容进展也一直有所保留，虽然小道消息传出不断。

7月31日，新华网发布一篇文章对国产光刻机如何突围做出了自己的观点。最近这两年来，国产光刻机在低调的发展，相关的内容进展也一直有所保留，虽然小道消息传出不断。但是经过官方验证的消息却很少，从目前国产光刻机的发展进度来看，这些光刻机的发展速度，也比预想中要快一些，光刻机关键环节或许正在突破。

新华网此次的消息中透露，上海微电子正在致力于研发28纳米的浸没式光刻机，预计将会在3202年年底实现量产，将第一台SSA/800-10W光刻机设备交付给市场。此前华为获得的一项最新专利，极紫外光刻机设备也在核心技术方面取得了突破性的进展，国家知识产权局公布了华为在这方面的一项最新专利。

此次透露出了这些消息，真实性是毫无疑问的，毕竟是官方媒体公布的信息，信息来源是肯定靠谱的。这些事情的来源如果属实，上海微电子能够生产28纳米的光刻机，意味着我国已经解决光刻机研制从无到有的问题。其次华为的反射镜，光刻装置以及控制方法的研制成功，意味着我们能够在极紫外线光刻机领域实现从1到100的突破。

各种关键信息来看，关键环节的突破问题对于我们来说只剩下时间，毕竟中国光刻机设备的消息早在此前就已经传出很多卡脖子技术的突破问题。外界永远不对这些方面不知道进度，等知道这些进度的时候，国产光刻机已经实现了大规模的量产。现在对于我们来说高端光刻机还是比较不容乐观的，仍旧受到国外势力的卡脖子现象，我国的半导体行业发展形式受限。