没有EUV光刻机造不了3nm 国产芯片将如何突破

2023-09-19 17:30:41 编辑：郑雄波来源：

导读 2023年初之际，谁也想不到半导体产业会成为如今的冰火两重天，整个芯片行业由于去库存导致哀鸿遍野，与之形成典型对比的英伟达AI芯片却一颗...

2023年初之际，谁也想不到半导体产业会成为如今的冰火两重天，整个芯片行业由于去库存导致哀鸿遍野，与之形成典型对比的英伟达AI芯片却一颗难求。很多互联网大佬都亲自飞往英伟达的总部，只为多求几颗ai芯片，其实造成这种状况的因素主要是EUV光刻机的制约，由于先进投入产出比并不合适。所以很多的芯片制造都停留在28纳米之后的状态下，国内的芯片制造企业更是如此。

在海外势力的封锁之下，如果只靠国内的产业链，我国的芯片制程工艺目前只能够做到七纳米左右，这和海外达成了三纳米制程工艺有了非常明显的差距。目前我国想要弥补这方面的差距，通常采用的方法是使用多个小芯片的堆叠，这样以期做出更高性能的产品，简单的来说国内企业是通过Chiplet来实现突破，达成了换道超车的操作。

标签： EUV光刻机，3nm，国产芯片