不用光刻机能生产高端芯片华裔科学家晶体管研究新突破

2023-05-27 14:42:06 编辑：谭菁博来源：

导读近日，麻省理工学院华裔科学家朱家迪带领团队，在原子级晶体管的研究方面取得突破，该项目的研究内容一旦成功，将可以抛除光刻机生产出一纳...

近日，麻省理工学院华裔科学家朱家迪带领团队，在原子级晶体管的研究方面取得突破，该项目的研究内容一旦成功，将可以抛除光刻机生产出一纳米甚至一纳米以下的制程芯片，这一技术将会使计算机的尺寸缩小到目前的1‰大小，并且所消耗的能量也仅有目前的1‰左右。据了解，传统的半导体芯片性能主要在于多层晶体管的堆叠，随着当下人工智能的兴起，发展计算机芯片成为了各行各业最迫切的需求。

该团队所研发的新晶体管，只有3个原子左右的厚度，所以在堆叠方面上来看，能够营造出更低的制造成本，花费最少的代价打造出性能更强大的芯片。该团队的研究人员还就该晶体管研发出一种新型技术，能够直接在完全知道的硅芯片中打造一层金属二硫化物的材料层，这样就能让芯片与晶体管拥有更密集的集成性。不过由于晶片制造的过程需要600度左右的温度，常规的硅晶体管在加热到400度左右时会出现损坏的情况，因此在材料选择方面将是一个重大的难点。

目前，麻省理工学院的该团队研究人员，已经开发出不会损坏芯片的低温生长工艺，这项技术的运行能够将二维半导体晶体管直接放置在标准硅电路中。这项新型技术还能够减少制造时间，按照原先的传统方法，需要一天的时间来制造芯片所用的单层二维材料，而这种全新的方法，只需要不到一个小时就能够打造出八英寸的金属二硫化物材料层。