纳米压印与光刻技术互补站在世界水平

2023-11-27 15:01:36 编辑：司马启河来源：

导读佳能从2004年开始就探索纳米压印技术，在2017年推出首台样机。目前这个样机可以实现最小线宽14纳米的图案化，相当于当下生产最先进的逻辑半...

佳能从2004年开始就探索纳米压印技术，在2017年推出首台样机。目前这个样机可以实现最小线宽14纳米的图案化，相当于当下生产最先进的逻辑半导体所需的5纳米制程。佳能推出全新的设备之后，通过纳米压印技术，可能会实现弯道超车。

当下的纳米压印技术已经在大批量生产上取得了巨大的进步，但仍然存在着各种各样的问题，比如结构均匀性与分辨率，缺陷率控制，模板寿命等等。纳米压印技术只能够用于对精度要求不太高的芯片，生产过程中的一些步骤也无法使用到这项技术。在光刻技术越来越艰难的情况下，纳米压印光刻也成为之后发展的一缕曙光。佳能虽然有先发优势，但是与我国的纳米压印技术相比并没有强多少。国内也有很多的科研公司正在研发纳米压印技术，在专利布局上仅次于美国。