俄罗斯自研光刻机目标是2024年量产350nm 2026年65nm

2023-11-06 18:46:36 编辑：封鸿玉来源：

导读根据俄罗斯媒体报道，俄罗斯工业和贸易部副部长在接受采访时表示：2024年俄罗斯将开始生产350纳米光刻机，2026年启动用于生产130纳米制成芯...

根据俄罗斯媒体报道，俄罗斯工业和贸易部副部长在接受采访时表示：2024年俄罗斯将开始生产350纳米光刻机，2026年启动用于生产130纳米制成芯片的光刻机。当下俄罗斯已经掌握使用国外光刻机制造65纳米芯片技术，国外的公司禁止向俄罗斯出口先进光刻机，俄罗斯为了能够应对当前的处境，也在努力的开发自己的光刻机。

俄罗斯本次决定开发350纳米到65纳米光刻机的主要原因在于，这个范围内的芯片多用于微控制器、电力电子、电信电路、汽车电子等多个方面。而这些应用占据整个市场大约60%，所以光刻机在整个全球的需求量都非常大。俄罗斯想要自然光刻机也是在为自己寻找更好的出路，同时设定具体的目标。相关负责人表示2024年俄罗斯会拨款2,114亿卢币，主要用于国内电子产品的开发。

标签：自研光刻机，纳米制程